著者の一言
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岡崎信次（おかざきしんじ）
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鈴木章義（すずきあきよし）
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上野巧（うえのたくみ）
2026.4.7
リソグラフィ技術としては光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術、EUV リソグラフィ技術、ナノインプリント技術等が挙げられるが、別の観点から見ればこれらの技術はレジスト、マスク、計測評価など様々なサブシステムに支えられた大きな技術体系の中にあると言える。本書ではこれらをできるだけ網羅して議論する。
岡崎信次（おかざきしんじ）
1970年東京工業大学理工学部電子工学科卒業。1970年（株）日立製作所中央研究所に入所。1994年東京工業大学より工学博士授与。1995年同社半導体事業部，1998年同社デバイス開発センターに異動，同年ASET に出向，EUV 研究室室長としてEUV リソグラフィ技術の研究に従事。2006年日立中研に帰任。2009年日立を退職し，ギガフォトン株式会社に入社。EUVA に出向，2011年，ギガフォトンに戻り，2017年に退職，ALITECS ㈱に入社し，現在に至る。IEEE Life Fellow，SPIE Fellow，応用物理学会Fellow。
鈴木章義（すずきあきよし）
1973年東京大学工学部物理工学専門課程修士卒業。1973年キヤノン入社，以降一貫して半導体露光装置の光学システムの開発に従事する。コンタクト／ プロキシミティ，等倍ミラープロジェクション，g 線／i 線／KrF／ArF／F2／ArF 液浸／EUV／ ナノインプリント／ 液晶など広範な光露光装置開発に関与した。2014年キヤノン退職後ギガフォトンに入社し2019年同社を退職。2016年よりAS リソグラフィコンサルティングを主宰し現在に到る。1991年東京大学より工学博士授与。2004年初代キヤノンフェロー，2005年SPIE（国際光学会）フェローに就任，2015 ～ 2017年SPIE 理事。1984年機械振興協会賞，1985年応用物理学会光学論文賞，2006年新機械振興協会賞，2019年 Frits Zernike Award （SPIE）受賞。
上野巧（うえのたくみ）
1979年東京工業大学大学院理工学研究科博士課程修了（理学博士）。1979年（株）日立製作所中央研究所に入所。1995年同社日立研究所。2001年日立化成工業（株）総合研究所（2002年－ 2005年日立化成デュポンマイクロシステムズへ出向），2012年より信州大学繊維学部特任教授。